ポジ型ホトレジスト組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：三枝英二 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-113521
公開番号（公開出願番号）：特開2001-296654
出願日： 2000年04月14日
公開日（公表日）： 2001年10月26日
要約：

【要約】【課題】本発明は、耐酸性や基材との密着性に優れ、金属や金属酸化膜等の種々の素材のホトエッチング加工におけるホトレジストのサイドエッチ量を極力減らし得るポジ型ホトレジスト組成物を提供することを課題とする。【解決手段】本発明のポジ型ホトレジスト組成物は、クレゾールノボラック樹脂及びナフトキノンジアジドスルホン酸エステルを主成分とするホトセンシタイザーを含有してなるポジ型ホトレジスト組成物において、クレゾールノボラック樹脂として重量平均分子量(Mw)16000〜75000のo-クレゾールノボラック樹脂を用いたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

クレゾールノボラック樹脂及びナフトキノンジアジドスルホン酸エステルを主成分とするホトセンシタイザーを含有してなるポジ型ホトレジスト組成物において、クレゾールノボラック樹脂として重量平均分子量(Mw)16000〜75000のo-クレゾールノボラック樹脂を用いたことを特徴とするポジ型ホトレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/023 511 , C08K 5/42 , C08L 61/10 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/023 511 , C08K 5/42 , C08L 61/10 , H01L 21/30 502 R

Fターム (18件)：

2H025AA00 , 2H025AA03 , 2H025AA07 , 2H025AA14 , 2H025AB17 , 2H025AC01 , 2H025AD03 , 2H025BE01 , 2H025CB29 , 2H025CB55 , 2H025FA03 , 2H025FA17 , 2H025FA40 , 4J002CC051 , 4J002CC052 , 4J002EV246 , 4J002FD142 , 4J002FD146

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開平3-208054
特開平3-294861
特開平2-055359

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審査官引用 (5件)

特開平3-208054
特開平3-294861
特開平2-055359

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