特許
J-GLOBAL ID:200903070530071298

偏光ポリビニレンシートの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 秀策
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-338235
公開番号(公開出願番号):特開平11-248937
出願日: 1998年11月27日
公開日(公表日): 1999年09月17日
要約:
【要約】【課題】 脱水酸触媒を界面に取り込む工程を含む偏光ポリビニレンシートの製造方法を提供すること【解決手段】 ポリビニレンをベースとした偏光子(「Kシート」型偏光子を参照)の製造方法が提供される。一つの実施態様において、偏光子のポリビニレン発色団が配向されたポリマー出発材料の酸触媒化脱水によって形成される。酸触媒は、出発材料を担持ウェブ(または他の支持基板)に固定するために用いられる結合剤として使用される。この方法の利点は、「むれ」および「斑点」の頻度が減少し、処理速度が良好になり、低濃度の酸が使用可能であるため低腐食性の処理環境が得られることである。
請求項(抜粋):
ヒドロキシル化線状高分子を含むポリマーシートから偏光子を形成する方法であって、(a)該ポリマーシートを充分に一軸延伸し、該ポリマーシートの該ヒドロキシル化線状高分子を延伸方向に沿って配向させる工程と、(b)該配向シートを支持体に結合する工程であって、該配向シートと該支持体との界面に脱水触媒を付与することを含む工程と、(c)該配向シートの接触脱水を起こさせるのに充分な条件下で、該支持された配向シートを処理し、それによって、該ポリマー内に光吸収ビニレンブロックセグメントが形成される工程と、を包含する、方法。
IPC (6件):
G02B 5/30 ,  B29C 55/04 ,  B29K 29:00 ,  B29L 7:00 ,  B29L 9:00 ,  B29L 11:00
FI (2件):
G02B 5/30 ,  B29C 55/04

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