特許
J-GLOBAL ID：200903070544785862
パターン検査装置およびパターン検査方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-194886
公開番号（公開出願番号）：特開平7-049313
出願日： 1993年08月05日
公開日（公表日）： 1995年02月21日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 参照基板のパターンデータの出現回数を測定し、出現回数が所定値より少ないパターンデータを、参照データから削除する。【構成】 参照基板K1を順次撮像して参照基板K1のパターンデータを参照データ記憶メモリ7に格納するとともに、そのパターンデータの出現回数をヒストグラム作成メモリ8に格納し、その内容を制御回路9は読み出してヒストグラムHGを作成し、出現回数の少ないパターンデータを抽出する。操作者にパターンの修正の確認を求め、修正の意思が確認されると参照データ記憶メモリ7を修正する。
請求項（抜粋）：
参照基板を撮像して得られる複数のパターンデータに含まれる複数種のパターンデータを参照パターンデータとして記憶する記憶手段と、被検査基板を撮像して得られる被検査パターンデータと前記記憶手段に記憶された参照パターンデータとを順次比較して、前記被検査基板のパターンの欠陥の有無を判別する判別手段と、を有するパターン検査装置において、前記参照基板を撮像して得られる複数のパターンデータに含まれる、前記複数種の参照パターンデータと同一のパターンデータの個数をそれぞれ計測する計測手段と、前記記憶手段に記憶された参照パターンデータのうちの、前記計測手段で計測された個数が所定値より少ない参照パターンデータを抽出する抽出手段と、を有することを特徴とするパターン検査装置。
IPC (4件)：
G01N 21/88
, G01B 11/24
, G06T 7/00
, H05K 3/00
