乾燥ガスに含まれる硫酸飛沫の除去方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：久保山隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-379820
公開番号（公開出願番号）：特開2003-181235
出願日： 2001年12月13日
公開日（公表日）： 2003年07月02日
要約：

【要約】【課題】乾燥ガスに含まれる硫酸飛沫を十分に除去し得る方法を提供する。【解決手段】硫酸飛沫を含む乾燥ガス(1)を、硫酸と反応して塩を形成しうる基材(2)と接触させて塩を形成させたのち、形成された硫酸塩をフィルター(3)で捕集する。前記乾燥ガス(1)に含まれる硫酸飛沫を除去することができる。フィルター(3)の孔径は通常0.2mm以下である。硫酸と反応して塩を形成しうる基材(2)とフィルター(3)とを備え、乾燥ガス(1)が前記基材(2)に接触したのち前記フィルター(3)で濾過されるように構成された硫酸飛沫除去装置(4)により、乾燥ガスに含まれる硫酸飛沫を除去する。

請求項（抜粋）：

硫酸飛沫を含む乾燥ガスを、硫酸と反応して硫酸塩を形成しうる基材と接触させて硫酸塩を形成させ、形成された硫酸塩をフィルターで捕集することを特徴とする前記乾燥ガスに含まれる硫酸飛沫の除去方法。

IPC (3件)：

B01D 51/00 , B01D 46/00 , B01D 53/28

FI (3件)：

B01D 51/00 Z , B01D 46/00 E , B01D 53/28

Fターム (7件)：

4D052CF00 , 4D052HA41 , 4D058JB22 , 4D058KB11 , 4D058SA15 , 4D058TA01 , 4D058TA10

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭48-102069
特開昭50-067295
特開昭57-162628

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