特許

J-GLOBAL ID：200903070551962770

マスクケース

発明者： 井ノ口 大輔 ,  大平 克己
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-278853
公開番号（公開出願番号）：特開2004-119566
出願日： 2002年09月25日
公開日（公表日）： 2004年04月15日
要約：

【課題】静電破壊を防止し、表面汚染を抑制しながらマスクを収納運搬することができるマスクケースを提供する。【解決手段】保持体3及びマスクケース内壁に導電性材料を用いることにより、マスク4が保持体3を経由してマスクケースに接地されるため、マスク4に帯電した電荷が除電されマスクパターン間での放電現象が抑制されることと、マスク4の電位がマスクケースと均一になりマスクケースとマスク4間での放電現象が抑制されることによりマスクパターンの静電破壊を防止でき、また同時に、マスクケース内部にアウトガスの少ない材料を用いることにより、マスクケースから発生するアウトガスを抑制し、マスク4の表面汚染を防止することができる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

集積回路の製造工程で使用されるレチクル又はフォトマスクを収納運搬するために用いられ、少なくとも上蓋とトレイから形成されたマスクケースにおいて、 前記上蓋及びトレイが導電性を有し、ガスの発生が少ない材料からなることを特徴としたマスクケース。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  H01L21/68

FI (2件)：

H01L21/30 503E ,  H01L21/68 T

Fターム (11件)：

5F031CA07 ,  5F031DA11 ,  5F031DA12 ,  5F031DA19 ,  5F031EA01 ,  5F031EA04 ,  5F031MA27 ,  5F031PA21 ,  5F031PA23 ,  5F031PA26 ,  5F046AA21