特許

J-GLOBAL ID：200903070556807560

蒸着薄膜の作製法

発明者： 渡部 行男
出願人/特許権者： 三菱化成株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-227275
公開番号（公開出願番号）：特開平6-122597
出願日： 1992年08月26日
公開日（公表日）： 1994年05月06日
要約：

【要約】【構成】 基板上に二種類以上の金属元素を含有する酸化物薄膜を蒸着により作製する方法において、該酸化物薄膜に含まれる金属の金属酸化物、金属炭酸化物、硫酸化物、リン酸化物又は硝酸化物のターゲットであって、焼結雰囲気下における該ターゲットの融点の60%以上の温度で焼結することにより得られた焼結密度90%以上であるターゲットを用いて、ターゲットに短パルス状のエネルギービームを逐次または同時に照射して薄膜を堆積させることを特徴とする蒸着薄膜の作製法。【効果】 レーザー蒸着法の欠点である粒の問題を解決し、膜形状と物性のいずれにもすぐれ電子デバイスに有用なセラミック薄膜を提供することができる。

請求項（抜粋）：

基板上に二種類以上の金属元素を含有する酸化物薄膜を蒸着により作製する方法において、該酸化物薄膜に含まれる金属の金属酸化物、金属炭酸化物、硫酸化物、リン酸化物又は硝酸化物のターゲットであって、焼結雰囲気下における該ターゲットの融点の60%以上の温度で焼結することにより得られた焼結密度90%以上であるターゲットを用いて、ターゲットに短パルス状のエネルギービームを逐次または同時に照射して薄膜を堆積させることを特徴とする蒸着薄膜の作製法。

IPC (6件)：

C30B 29/22 501 ,  C01G 1/00 ,  C30B 23/08 ZAA ,  C30B 25/06 ZAA ,  H01B 13/00 565 ,  H01L 39/24 ZAA