特許

J-GLOBAL ID：200903070560696764

非蒸発型ゲッタの製造方法及び配置方法

発明者： 亀山 誠 ,  鈴木 博幸 ,  小倉 全昭
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-051550
公開番号（公開出願番号）：特開2000-246090
出願日： 1999年02月26日
公開日（公表日）： 2000年09月12日
要約：

【要約】【課題】 非蒸発型ゲッタを様々な形状で、ガス放出源に近い位置に配置する方法を提供する。【解決手段】 超微粒子を、ガスと共に基板上に噴射することによって、該基板上に超微粒子膜を形成し、金属粉末を前記超微粒子膜に圧着した後もしくは圧着しつつ加熱し、前記金属粉末を前記超微粒子膜上に固着させることによって、前記基板上に非蒸発型ゲッタを配置する非蒸発型ゲッタの配置方法であって、前記超微粒子及び前記ガスは、前記基板に配されている電極上もしくは配線上に噴射する。

請求項（抜粋）：

超微粒子を、ガスと共に基板上に噴射することによって、該基板上に超微粒子膜を形成し、金属粉末を前記超微粒子膜に圧着した後もしくは圧着しつつ加熱し、前記金属粉末を前記超微粒子膜上に固着させることによって、前記基板上に非蒸発型ゲッタを配置することを特徴とする非蒸発型ゲッタの製造方法。

IPC (3件)：

B01J 19/00 ,  H01J 9/39 ,  H01J 29/94

FI (3件)：

B01J 19/00 K ,  H01J 9/39 A ,  H01J 29/94

Fターム (19件)：

4G075AA24 ,  4G075AA25 ,  4G075BA02 ,  4G075BC01 ,  4G075BD26 ,  4G075CA02 ,  4G075CA65 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075FA12 ,  4G075FB02 ,  4G075FC20 ,  5C012AA05 ,  5C032AA01 ,  5C032JJ01 ,  5C032JJ08 ,  5C032JJ10 ,  5C032JJ12 ,  5C032JJ13