特許

J-GLOBAL ID：200903070567053974

フラツクス洗浄剤およびそれを用いた半田付け電子部品の洗浄方法

発明者： 菊地 哲慈 ,  菊地 広 ,  佐藤 俊彦 ,  林田 哲哉 ,  岸川 範夫
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立超エル・エス・アイ・エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-218374
公開番号（公開出願番号）：特開平5-059397
出願日： 1991年08月29日
公開日（公表日）： 1993年03月09日
要約：

【要約】【目的】 フロン系溶剤に代替するフラックス洗浄剤を提供する。【構成】 フラックスを10〜75(V/V)%の範囲で含有し、イソプロピルアルコールを25〜90(V/V)%の範囲で含有するフラックス洗浄剤である。半田付け後の電子部品は、まず、このフラックス洗浄剤中に浸漬され、次いでイソプロピルアルコールでリンスされた後、イソプロピルアルコールの蒸気乾燥に付される。

請求項（抜粋）：

フラックスを10〜75(V/V)%の範囲で含有し、イソプロピルアルコールを25〜90(V/V)%の範囲で含有するフラックス洗浄剤。

IPC (4件)：

C11D 7/50 ,  H05K 3/26 ,  H05K 3/34 ,  C11D 7:26