特許

J-GLOBAL ID：200903070568233828

洗浄装置

発明者： 園田 治毅 ,  辻 寛樹 ,  北川 賢一 ,  森戸 泰臣
出願人/特許権者： 島田理化工業株式会社
代理人 (1件)： 上島 淳一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-215276
公開番号（公開出願番号）：特開2002-028592
出願日： 2000年07月17日
公開日（公表日）： 2002年01月29日
要約：

【要約】【課題】洗浄液によって基板が再汚染される恐れを低減して、短時間で基板の洗浄を行うことができるようにする。【解決手段】保持手段に保持された被洗浄物を洗浄液中に浸漬して洗浄を行う洗浄装置において、上部に開口部を有するとともに底部が閉塞された外槽と、上記外槽の内部において上記外槽と所定の間隙を有して配設され、上部に上方開口部を有するとともに、上記外槽の底部側に上記外槽の内部と連通する下方開口部を有する内槽と、上記内槽の内部において、上記内槽の上記下方開口部近傍に配設されるとともに、上記内槽の内面に沿って下方から上方へ向かう方向で洗浄液を供給する洗浄液供給手段とを有する。

請求項（抜粋）：

保持手段に保持された被洗浄物を洗浄液中に浸漬して洗浄を行う洗浄装置において、上部に開口部を有するとともに底部が閉塞された外槽と、前記外槽の内部において前記外槽と所定の間隙を有して配設され、上部に上方開口部を有するとともに、前記外槽の底部側に前記外槽の内部と連通する下方開口部を有する内槽と、前記内槽の内部において、前記内槽の前記下方開口部近傍に配設されるとともに、前記内槽の内面に沿って下方から上方へ向かう方向で洗浄液を供給する洗浄液供給手段とを有する洗浄装置。

Fターム (8件)：

3B201AA03 ,  3B201AB44 ,  3B201BB02 ,  3B201BB04 ,  3B201BB05 ,  3B201BB87 ,  3B201BB92 ,  3B201CB12