特許

J-GLOBAL ID：200903070580419759

フエニルポリシルセスキオキサンおよびその製造方法

発明者： 中島 久隆
出願人/特許権者： 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-221052
公開番号（公開出願番号）：特開平5-039357
出願日： 1991年08月06日
公開日（公表日）： 1993年02月19日
要約：

【要約】【目的】 分子量分布が狭い低分子量フェニルポリシルセスキオキサンおよびその製造方法を提供する。【構成】 ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる標準ポリスチレン換算の数平均分子量500〜1500で占められる部分が90パーセント以上存在する、一般式:【式1】(Rは水素原子または一価炭化水素基であり、nは平均重合度を示す正数である。)で示されるフェニルポリシルセスキオキサンおよびその製造方法。

請求項（抜粋）：

ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる標準ポリスチレン換算の数平均分子量500〜1500の範囲で占められる部分が90パーセント以上存在する、一般式:【化1】(Rは水素原子または一価炭化水素基であり、nは平均重合度を示す正数である。)で示されるフェニルポリシルセスキオキサン。