ポジ型レジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩野平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-328588
公開番号（公開出願番号）：特開2001-147523
出願日： 1999年11月18日
公開日（公表日）： 2001年05月29日
要約：

【要約】【課題】遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ-ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、具体的には、感度及び解像力に優れ、更にレジスト溶液に時間の経過と共にパーテイクルが発生する問題を解消したポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定構造の化合物、特定の構造の繰り返し構造単位と主鎖に脂環式環を有する特定の構造の繰り返し構造単位とを有し、かつ酸の作用により分解する基を有する重合体を含有するポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する下記一般式(I)及び(II)で表される化合物から選択される少なくとも1種の化合物、並びに(B)下記一般式(Ia')及び一般式(Ib')で表される繰り返し構造単位のうち少なくともいずれかと下記一般式(II')で表される繰り返し構造単位とを有し、かつ酸の作用により分解する基を有する重合体を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】上記一般式(I)〜(II)中:R1〜R27は、各々独立に、水素原子、直鎖状、分岐状あるいは環状アルキル基、直鎖状、分岐状あるいは環状アルコキシ基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、又は-S-R28基を表す。R28は、直鎖状、分岐状あるいは環状アルキル基又はアリール基を表す。但し、R1〜R15、R16〜R27のうち、少なくとも一つは水素原子ではない。また、R1〜R15、R16〜R27のうち、2つ以上が結合して、単結合、炭素、酸素、イオウ、及び窒素から選択される1種又は2種以上を含む環を形成していてもよい。X-は、RFSO3-を表す。ここでRFは、炭素数2以上のフッ素置換された直鎖状、分岐状あるいは環状アルキル基である。【化2】式(Ia')中:R'1、R'2は、各々独立に、水素原子、シアノ基、水酸基、-COOH、-COOR'5、-CO-NH-R'6、-CO-NH-SO2-R'6、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルコキシ基あるいは置換されていてもよい環状炭化水素基、又は下記-Y基を表す。ここで、R'5は、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよい環状炭化水素基又は下記-Y基を表す。R'6は、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよい環状炭化水素基を表す。Xは、酸素原子、硫黄原子、-NH-、-NHSO2-又は-NHSO2NH-を表す。Aは単結合又は2価の連結基を表す。-Y基:【化3】(-Y基中、R'21〜R'30は、各々独立に、水素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。a,bは1又は2である)式(Ib')中:Z2は、-O-又は-N(R'3)-を表す。ここで、R'3は、水素原子、水酸基又は-OSO2-R'4を表す。R4'はアルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基又は樟脳残基を表す。式(II')中:R'11,R'12は、各々独立に、水素原子、シアノ基、ハロゲン原子、又は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。Zは、結合した2つの炭素原子(C-C)を含み、置換基を有していてもよい脂環式構造を形成するための原子団を表す。

IPC (2件)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/039 601

FI (2件)：

G03F 7/004 503 A , G03F 7/039 601

Fターム (16件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BF02 , 2H025BG00 , 2H025CB10 , 2H025CB43 , 2H025CB45 , 2H025CC04 , 2H025CC20

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