描画用ビームの評価方法及び調整方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-107441
公開番号（公開出願番号）：特開平9-293668
出願日： 1996年04月26日
公開日（公表日）： 1997年11月11日
要約：

【要約】【課題】基本単位図形を接続して描画した場合におけるビームの接続誤差や寸法誤差を定量的に評価することができ、描画精度の向上に寄与する。【解決手段】荷電ビーム描画装置における描画用ビームの評価方法において、基板上に塗布されたレジスト上に所望のパターンを描画した後、パターンが描画されたレジストを最適な現像時間より短い時間で現像し、次いで現像されたレジスト上を微小な探針を有する走査型プローブ顕微鏡で走査してレジストの高さ分布を測定し、高さ分布測定結果から描画に用いたビームの寸法,形状及び位置の誤差を求める。

請求項（抜粋）：

基板上に塗布されたレジスト上に荷電ビーム描画装置或いは光ビーム描画装置により所望のパターンを描画する工程と、前記パターンが描画されたレジストを最適な現像時間より短い時間で現像する工程と、前記現像されたレジスト上を微小な探針を有する走査型プローブ顕微鏡で走査してレジストの高さ分布を測定する工程と、高さ分布測定結果から描画に用いたビームの寸法,形状又は位置の誤差を求める工程とを含むことを特徴とする描画用ビームの評価方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 501 , G03F 7/20 521

FI (7件)：

H01L 21/30 541 Q , G03F 7/20 501 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 502 V , H01L 21/30 541 M , H01L 21/30 541 B , H01L 21/30 541 S

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