特許
J-GLOBAL ID:200903070596007078

エチレン系重合体の製造方法及びその方法により得られたエチレン系重合体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大谷 保
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-023880
公開番号(公開出願番号):特開平6-298825
出願日: 1994年02月22日
公開日(公表日): 1994年10月25日
要約:
【要約】【目的】 非ニュートン性が改良され、良好な成形性を有し、成形加工における低エネルギー化や低コスト化が図られるエチレン系重合体を高効率で製造する方法を提供すること。【構成】 特定の範囲の共重合性を有する特定の金属化合物、末端ビニル基を生成させる特定の金属化合物及びこれらの金属化合物又はその派生物からイオン性の錯体を形成しうる化合物からなる触媒の存在下、エチレンを単独重合又は共重合させるエチレン系重合体の製造方法、及びこの方法により得られた、密度が0.86〜0.97g/ミリリットル、DSCによる最大融解ピーク位置が50〜136°C、又は実質的に融解ピークを示さず、〔η〕が0.01〜20デシリットル/g(135°C,デカリン)、Mw/Mnが2.0〜40の範囲にあるエチレン系重合体である。
請求項(抜粋):
(A)モノマー仕込組成〔オクテン-1/(エチレン+オクテン-1)モル比〔M〕〕と、生成共重合体の結晶化エンタルピー(ΔH)と融点(Tm)の積との関係が、式0≦ΔH・Tm≦27,000-21,600〔M〕0.56を満足する金属化合物〔ただし、該(A)成分とアルミノキサンを用いた重合条件で〕と、(B)エチレンの単独重合、又は炭素数3〜20のα-オレフィン、環状オレフィン、スチレン及びスチレン誘導体の中から選ばれた少なくとも一種とエチレンとの共重合において、末端ビニル基を形成する金属化合物〔ただし、該(B)成分とアルミノキサンを用いた重合条件で〕及び(C)上記(A)成分及び(B)成分又はそれらの派生物からイオン性の錯体を形成しうる化合物とから構成される触媒〔ただし、上記(A)成分及び(B)成分の金属化合物は、周期律表3族〜10族に属する金属又はランタノイド系列の金属を含む化合物を示す。〕の存在下、エチレンの単独重合、又は炭素数3〜20のα-オレフィン、環状オレフィン、スチレン及びスチレン誘導体の中から選ばれた少なくとも一種とエチレンとの共重合を行うことを特徴とするエチレン系重合体の製造方法。
IPC (4件):
C08F 4/642 MFG ,  C08F 6/10 MFL ,  C08F210/02 ,  C08F210/16

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