特許

J-GLOBAL ID：200903070615123351

露光装置および露光方法

発明者： 植村 恒三郎
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-195329
公開番号（公開出願番号）：特開平11-087238
出願日： 1989年05月09日
公開日（公表日）： 1999年03月30日
要約：

【要約】【課題】 露光装置の性能を損なうことなく、レーザ光源の保守を行う。【解決手段】ガス交換やガス注入等のレーザ光源(10、12)の動作と、露光本体部(M1〜M6,PL,32X,32Y,34,FMなど)の処理動作とを協調させる。

請求項（抜粋）：

ガスの保守動作を必要とするレーザ光源と;該レーザ光源から射出されたレーザ光を用いてマスクのパターンの像で感応基板を露光するための露光本体部と;前記レーザ光源からの保守動作に関する情報と前記露光本体部での動作状態とに基づいて、前記レーザ光源にガスの保守動作を指令する制御系と;を備えたことを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 502

FI (5件)：

H01L 21/30 515 B ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/30 502 G ,  H01L 21/30 516 Z ,  H01L 21/30 527