特許
J-GLOBAL ID：200903070616761785
光励起反応装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-121658
公開番号（公開出願番号）：特開平5-315302
出願日： 1992年05月14日
公開日（公表日）： 1993年11月26日
要約：
【要約】【目的】光励起反応を利用した基板表面処理において、基板表面で最大限の光励起反応が得られる表面処理装置を提供する。【構成】反応室1に光源10と基板11を隔てる、紫外線を透過する石英板の窓5を設け、二つの部屋の圧力を同程度に調節することにより、窓材の肉厚を薄くし、また光源側の部屋には紫外線を吸収しない不活性ガスを導入する。【効果】基板表面で強い紫外線強度が得られ、基板上で効率的に光励起反応が得られる。
請求項（抜粋）：
反応室内に基板を載置して所定の反応ガスを導入するとともに紫外線を照射して前記基板の表面を処理する光励起反応を利用した基板処理装置において、前記反応室に前記基板と光源を隔て、紫外線を透過する石英板の窓を設け、反応室を二つに分け、二つの反応室を個別に真空ポンプにより排気させることを特徴とする光励起反応装置。
IPC (3件)：
H01L 21/302
, C23F 4/00
, H01L 21/304 341
