特許

J-GLOBAL ID：200903070619325854

位相差板及びその製造方法

発明者： 荒川 公平
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 廣田 浩一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-206844
公開番号（公開出願番号）：特開2003-021717
出願日： 2001年07月06日
公開日（公表日）： 2003年01月24日
要約：

【要約】【課題】 視認可能な色ムラ等の発現がなく、環境問題等を生ずることなく効率よく量産可能な位相差板及びその効率的な製造方法の提供。【解決手段】 押出成形法により得た成形体を延伸してなり、レターデーション(Re)値が50nm以上であり、表面に形成されたダイラインの凹部深さが、(Δd/d)≦(1/Re)、を満たす位相差板である。前記不等式中、Δdは表面に形成されたダイラインの凹部深さ(μm)を、dは位相差板の厚み(μm)を、Reは位相差板のレターデーション値(nm)を表す。レターデーション(Re)値が50nm以上である位相差板の製造方法であって、表面に形成される凹部深さを連続的に検出し、前記不等式を満たすようにして、押出成形法により成形体を得る押出工程と、該成形体を延伸する延伸工程とを行うことを特長とする位相差板の製造方法である。

請求項（抜粋）：

押出成形法により得た成形体を延伸してなり、レターデーション(Re)値が50nm以上であり、かつ表面に形成された凹部深さが下記不等式(1)を満たすことを特長とする位相差板。(Δd/d)≦(1/Re)・・・不等式(1)ただし、前記不等式(1)において、Δdは、表面に形成された凹部深さ(μm)を表し、dは、位相差板の厚み(μm)を表し、Reは、位相差板のレターデーション値(nm)を表す。

IPC (6件)：

G02B 5/30 ,  B29C 55/02 ,  G02F 1/13363 ,  B29K 23:00 ,  B29L 7:00 ,  B29L 11:00

FI (6件)：

G02B 5/30 ,  B29C 55/02 ,  G02F 1/13363 ,  B29K 23:00 ,  B29L 7:00 ,  B29L 11:00

Fターム (20件)：

2H049BA06 ,  2H049BA07 ,  2H049BA25 ,  2H049BB48 ,  2H049BC08 ,  2H049BC09 ,  2H049BC22 ,  2H091FA11X ,  2H091FA11Z ,  2H091FB02 ,  2H091FC01 ,  2H091FC07 ,  2H091LA12 ,  2H091LA30 ,  4F210AA03 ,  4F210AF16 ,  4F210AG01 ,  4F210AH73 ,  4F210QG01 ,  4F210QG18