特許
J-GLOBAL ID：200903070619513693

高められた溶融強度を有するポリマーを製造するゲルマニウム橋架けメタロセン

発明者：
ドナ ジェイ.クラウザー

ドナ ジェイ.クラウザー について

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ナタリー エイ.メリル

ナタリー エイ.メリル について

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チンタイ ルー

チンタイ ルー について


出願人/特許権者：
ユニベーション・テクノロジーズ・エルエルシー

ユニベーション・テクノロジーズ・エルエルシー について


代理人 (1件)： 倉内 基弘 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-592330
公開番号（公開出願番号）：特表2002-534536
出願日： 1999年12月02日
公開日（公表日）： 2002年10月15日
要約：
【要約】本発明は、エチレン及び随意としてのコモノマーを活性剤及び式(I)で表わされる遷移金属化合物を含む触媒系と接触させることを含む、エチレンの重合方法に関する。【化1】式中、R1及びR2は独立的に水素又は100個までの炭素原子を有する基であり、Cp1は巨大リガンドであり、Cp2は巨大リガンド又は随意にC1〜C50ヒドロカルビル基に結合したヘテロ原子であり、nは遷移金属の原子価状態であり、Tmは第3〜10族金属であり、各Xは独立的にアニオン性脱離基である。
請求項（抜粋）：
エチレン及び随意としての50モル%までの1種以上のコモノマー(このコモノマーのモル%はエチレン及びコモノマーを基準とする)を活性剤及び次式で表わされる遷移金属化合物を含む触媒系と接触させることを含む、エチレンの重合方法:【化1】(ここで、R1及びR2は独立的に水素又は100個までの炭素原子を有する基であり、但し、R1及びR2が共にフェニルであることはなく、 Cp1は巨大リガンドであり、 Cp2は巨大リガンド又は随意にC1〜C50ヒドロカルビル基に結合したヘテロ原子であり、 nは遷移金属の原子価状態であり、 Tmは第3〜10族金属であり、 各Xは独立的にアニオン性脱離基である)。
IPC (2件)：
C08F 4/64 ,  C08F 10/02
FI (2件)：
C08F 4/64 ,  C08F 10/02
Fターム (24件)：
4J028AA01 ,  4J028AB01 ,  4J028AC10A ,  4J028AC28A ,  4J028AC41A ,  4J028BA01 ,  4J028BB01B ,  4J028BB02B ,  4J028BC15B ,  4J028BC20B ,  4J028BC25B ,  4J028CA28C ,  4J028CB55C ,  4J028DB08A ,  4J028EA01 ,  4J028EB02 ,  4J028EB09 ,  4J028EC01 ,  4J028EC02 ,  4J028FA02 ,  4J028GA01 ,  4J028GA05 ,  4J028GA08 ,  4J028GB01
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 特開平3-045612
  • メタロセン化合物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-324968   出願人：ヘキスト・アクチェンゲゼルシャフト
  • 特開平3-045612

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