特許

J-GLOBAL ID：200903070636000713

低融点ガラスのパターニング方法及び該方法に用いるレジストマスク材組成物

発明者： 間瀬 恵二 ,  神田 真治
出願人/特許権者： 株式会社不二製作所
代理人 (1件)： 小倉 正明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-301321
公開番号（公開出願番号）：特開2000-131853
出願日： 1998年10月22日
公開日（公表日）： 2000年05月12日
要約：

【要約】【課題】PDP の大型化、高精細化、高輝度化を図り、レジストマスクの処理をも簡便化する。【解決手段】基板の全面にブラスト性を有する低融点ガラス層を形成し、スクリーン印刷により該低融点ガラスの表面にイソブテン又はノルマルブテンの重合体又はこれらの共重合体を主成分とするレジストマスク材にてレジストパターンを形成し、これをレジストマスクとしてブラスト加工することにより低融点ガラスのパターン形成を行う。

請求項（抜粋）：

基板の全面にブラスト性を有する低融点ガラス層を形成し、スクリーン印刷により該低融点ガラスの表面にイソブテン又はノルマルブテンの重合体またはこれらの共重合体を主成分とするレジストマスク材にてレジストパターンを形成し、これをレジストマスクとしてブラスト加工することにより低融点ガラスのパターン形成を行うことを特徴とする低融点ガラスのパターニング方法。

IPC (5件)：

G03F 7/36 ,  C03C 19/00 ,  G03F 7/032 ,  G03F 7/40 521 ,  H01J 9/02

FI (5件)：

G03F 7/36 ,  C03C 19/00 A ,  G03F 7/032 ,  G03F 7/40 521 ,  H01J 9/02 F

Fターム (8件)：

2H025AB17 ,  2H025AD00 ,  2H025BD42 ,  2H096AA27 ,  2H096BA00 ,  4G059AA08 ,  4G059AC30 ,  5C027AA09