特許

J-GLOBAL ID：200903070640113158

耐損傷性光学部品の製造方法

発明者： ハッケル,ロイド,エイ. ,  バーンハム,アラン,ケイ. ,  ペネトランテ,バーナーディノ,エム. ,  ブルサスコ,レイモンド,エム. ,  ウェグナー,ポール,ジェイ. ,  ルベシュ,ローレンス,ダブリュ. ,  コズロウスキ,マーク,アール. ,  フェイト,マイケル,ディー.
出願人/特許権者： ザ リージェンツ オブ ザ ユニバーシティ オブ カリフォルニア
代理人 (3件)： 星野 哲郎 ,  山下 昭彦 ,  岸本 達人
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-526851
公開番号（公開出願番号）：特表2005-507994
出願日： 2002年09月06日
公開日（公表日）： 2005年03月24日
要約：

本発明は、光学部品の表面損傷の成長を抑制するシステムを提供する。光学部品の損傷は最小限に発生させられる。本発明の一つの態様においては、光学部品中の損傷部位が発生させられ、位置が特定され、それから損傷部位の成長を止めるための処理がされる。光学部品中の損傷部位を発生させる段階は、欠陥に損傷部位を発生させるレーザーを使用した光学部品の走査を含む。発生した部位の正確な位置が特定される。局部的にあるいは全体的に、後に起こる損傷部位の成長の原因を取り除く抑制処理が行われる。

請求項（抜粋）：

光学部品中に損傷部位を発生させる工程、 前記発生した損傷部位の位置を特定する工程、 続いて起こる前記損傷部位の損傷成長の原因を取り除く抑制処理を行う工程、 を含む、レーザーによって引き起こされた光学部品中の表面損傷の成長を抑制する方法。

IPC (3件)：

G01N21/84 ,  G01M11/00 ,  G02B3/00

FI (3件)：

G01N21/84 Z ,  G01M11/00 T ,  G02B3/00 Z

Fターム (10件)：

2G051AA90 ,  2G051AB02 ,  2G051BA10 ,  2G051BA11 ,  2G051CA04 ,  2G051CB05 ,  2G051DA07 ,  2G051DA13 ,  2G051DA15 ,  2G086EE12

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-070536
  
• 特開昭63-214649
  
• 特開平4-118540
  
• 光損傷に対して高い抵抗性を有する溶融シリカ
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平10-509705   出願人：コーニングインコーポレイテッド

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Chemical etch effects on laser-induced surface damage growth in fused silica