特許
J-GLOBAL ID:200903070661726877

極紫外線光源

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 熊倉 禎男 ,  大塚 文昭 ,  今城 俊夫 ,  西島 孝喜
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-584754
公開番号(公開出願番号):特表2005-522839
出願日: 2003年04月09日
公開日(公表日): 2005年07月28日
要約:
本発明は、信頼性があり、繰り返し速度が高く、製造ラインと相性の良い高エネルギー光子源を提供する。活性材料を含む非常に高温のプラズマを真空チャンバで生成する。この活性材料は、望ましい極紫外線(EUV)範囲内に輝線を有する原子である。充電コンデンサと、パルス変換器を備えた磁気圧縮回路とを具備したパルス電源は、中間焦点でのEUV光を5ワットを超える率で生成できるだけのエネルギーと電位を有する電気的パルス提供する。出願人が設計した好適な実施形態では、中間焦点における帯域内EUV光エネルギーは45ワットで、更に105.8ワットまで拡大可能である。
請求項(抜粋):
生産ラインと相性の良い、高い繰り返し速度と高い平均出力を有するパルス駆動高エネルギー光子ソースにおいて、 A.10nsから200nsの範囲の持続時間で電気的パルスを生成するためのパルス変成器を備えたパルスパワーシステムと、 B.真空チャンバと、 C.前記真空室内に入れられた、所望の極紫外線波長範囲内の輝線で特徴付けられる原子種を含んでいる活性材料と、 D.前記所望の極紫外線波長範囲内の波長における少なくとも極紫外線放射線に亘る平均が少なくとも5ワットになるように、前期真空チャンバ内の高温プラズマスポットに高温プラズマを生成するための高温プラズマ生成手段と、 E.前記紫外線放射線の一部を集め、前記高温プラズマスポットから離れた場所に前記放射線を集束するための放射線収集及び集束手段と、を備えていることを特徴とするソース。
IPC (6件):
H05G2/00 ,  G21K5/00 ,  G21K5/02 ,  H01L21/027 ,  H05H1/06 ,  H05H1/24
FI (6件):
H05G1/00 K ,  G21K5/00 Z ,  G21K5/02 X ,  H05H1/06 ,  H05H1/24 ,  H01L21/30 531S
Fターム (5件):
4C092AA06 ,  4C092AA20 ,  4C092AB06 ,  4C092AC09 ,  5F046GC03
引用特許:
出願人引用 (24件)
  • 2003年4月7日出願米国特許出願「極紫外線光源」
  • 米国特許第6,452,199号
  • 米国特許第5,142,166号
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審査官引用 (2件)
  • 特許第2942544号
  • 平版投影装置用の照射源
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-404229   出願人:エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ

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