特許

J-GLOBAL ID：200903070663719010

位置検出装置

発明者： 北岡 厚志 ,  斉藤 謙治
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-020514
公開番号（公開出願番号）：特開平5-066109
出願日： 1992年01月09日
公開日（公表日）： 1993年03月19日
要約：

【要約】【目的】 半導体素子製造装置においてマスクとウエハとの3次元的な相対位置決め(アライメント)を高精度に行なうことのできる位置検出装置を得ること。【構成】 第1物体と第2物体とを対向させて相対的な位置検出を行なう際、該第1物体面上と該第2物体面上に各々物理光学素子を形成し、このうち一方の物理光学素子に投光手段から光を入射させたときに生ずる回折光を他方の物理光学素子に入射させ、該他方の物理光学素子により所定面上に生ずる回折パターンの光束を受光手段により検出する粗検出手段及び該粗検出手段と同一方向の位置ずれ量を該粗検出手段の投光手段及び受光手段の一部を共有する微検出手段とを設け、該粗検出手段からの信号を利用して該第1物体と第2物体との相対的位置関係を該微検出手段の検出可能領域に追い込んでから該微検出手段からの信号を利用して該第1物体と該第2物体との相対的な位置検出を行なったこと。

請求項（抜粋）：

第1物体と第2物体とを対向させて相対的な位置検出を行なう際、該第1物体面上と該第2物体面上に各々物理光学素子を形成し、このうち一方の物理光学素子に投光手段から光を入射させたときに生ずる回折光を他方の物理光学素子に入射させ、該他方の物理光学素子により所定面上に生ずる回折パターンの光束を受光手段により検出する粗検出手段及び該粗検出手段と同一方向の位置ずれ量を該粗検出手段の投光手段及び受光手段の一部を共有すると共に該粗検出手段とは異なる検出精度又は/及び位置ずれ検出可能範囲を有する微検出手段とを設け、該粗検出手段と該微検出手段とを利用して該第1物体と該第2物体との相対的な位置検出を行なったことを特徴とする位置検出装置。

IPC (3件)：

G01B 11/00 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 311 B ,  H01L 21/30 311 M