特許
J-GLOBAL ID：200903070684888025
エキシマレーザ用高反射鏡
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大西 正悟
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-263366
公開番号（公開出願番号）：特開平11-101903
出願日： 1997年09月29日
公開日（公表日）： 1999年04月13日
要約：
【要約】【課題】 高屈折率誘電体層の負の不均質を低減し、高屈折率誘電体層と低屈折率誘電体層との屈折率差を確保することで、高反射帯域がより広く、最大反射率のより高い高反射鏡を得る。【解決手段】 基板11上に高屈折率物質と低屈折率物質とを交互に蒸着させることにより、高屈折率誘電体層12と低屈折率誘電体層13とを交互に積層して多層の反射膜を形成し、この多層の反射膜によってエキシマレーザを反射させるように構成されている。そして、高屈折率誘電体層12を構成する高屈折率物質を蒸着させるときには、イオンビームアシスト蒸着法を用いて行う。
請求項（抜粋）：
基板上に高屈折率物質と低屈折率物質とを交互に蒸着させることにより、高屈折率誘電体層と低屈折率誘電体層とを交互に積層して多層の反射膜を形成し、この多層の反射膜によってエキシマレーザを反射させる反射鏡において、前記高屈折率物質がイオンビームアシスト蒸着法を用いて蒸着されていることを特徴とするエキシマレーザ用高反射鏡。
IPC (4件)：
G02B 5/08
, C23C 14/32
, G02B 5/28
, H01S 3/08
G02B 5/08 A
, C23C 14/32 F
, G02B 5/28
, H01S 3/08 Z
