特許
J-GLOBAL ID:200903070707308226

プリント位置合わせ方法およびプリント装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 谷 義一 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-205705
公開番号(公開出願番号):特開2000-037936
出願日: 1998年07月21日
公開日(公表日): 2000年02月08日
要約:
【要約】【課題】 プリント装置における第1および第2のプリント、例えばプリントヘッドの往復走査間でのプリントの位置合わせを、ユーザ等の手を煩らわせることなくかつ簡易に行うプリント位置合わせ方法を提供する。【解決手段】 プリントヘッドの往復走査のプリントによりドット形成域の面積率が異なる複数のパターンを形成し、当該形成された複数のパターンそれぞれの光学特性を測定して、それらの特性から、往復プリントでのプリント位置のずれと光学特性との関係を示す関数を決定する。そしてプリント装置のモードに応じて速度を異ならせた往復走査でのプリントにより所定のドット形成域の面積率を持つパターンを形成させ、そのパターンの光学特性を測定し、当該測定された光学特性を前記関数に適用して、往復走査でのプリント間のドット形成位置条件の調整値を各モード毎に得る。
請求項(抜粋):
プリントヘッドを用い、プリント媒体にドット形成位置条件を異ならせた第1および第2プリントにより画像のプリントを行うプリント装置に対し、前記第1および第2プリントでのプリント位置合わせを行うための処理を行うプリント位置合わせ方法であって、前記プリントヘッドの前記第1および/または第2のプリントによりドット形成域の面積率が異なる複数のパターンを形成する第1のパターン形成工程と、当該形成された複数のパターンそれぞれの光学特性を測定する第1測定工程と、当該測定された光学特性から、前記第1および第2プリントでのプリント位置のずれと光学特性との関係を示す関数を決定する工程と、前記第1プリントおよび第2プリントにより所定のドット形成域の面積率を持つパターンを形成させる第2のパターン形成工程と、当該パターンの光学特性を測定する第2測定工程と、当該測定された光学特性を前記関数に適用して、前記第1プリントと前記第2プリントとの間のドット形成位置条件の調整値を得る調整値取得工程と、を具えたことを特徴とするプリント位置合わせ方法。
IPC (5件):
B41J 29/46 ,  B41J 2/01 ,  B41J 2/51 ,  B41J 2/485 ,  B41J 19/18
FI (6件):
B41J 29/46 C ,  B41J 19/18 B ,  B41J 3/04 101 Z ,  B41J 3/10 101 J ,  B41J 3/12 G ,  B41J 3/12 C
Fターム (23件):
2C056EA06 ,  2C056EA07 ,  2C056EA08 ,  2C056EB42 ,  2C056EC04 ,  2C056EC07 ,  2C056EC37 ,  2C056EC77 ,  2C056EE02 ,  2C056FA03 ,  2C056FA11 ,  2C061AQ05 ,  2C061BB10 ,  2C061KK04 ,  2C061KK13 ,  2C061KK18 ,  2C061KK19 ,  2C061KK22 ,  2C061KK26 ,  2C061KK28 ,  2C061KK33 ,  2C062LA09 ,  2C480CA17

前のページに戻る