特許

J-GLOBAL ID：200903070708383060

干渉測定方法及び干渉計の制御装置、並びに、投影レンズの製造方法及び投影露光装置

発明者： 川上 潤
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 古谷 史旺
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-387753
公開番号（公開出願番号）：特開2003-185409
出願日： 2001年12月20日
公開日（公表日）： 2003年07月03日
要約：

【要約】【課題】 低コヒーレンス干渉における光路差調整用の光学素子の最適位置を確実に決定する。【解決手段】 被検レンズの透過光束である被検光束を所定の参照光束と干渉させる光学系と、前記干渉により生じる干渉縞を検出する検出手段とを備えた干渉計により、前記被検レンズの透過波面を測定する干渉測定方法であって、前記干渉計において光学素子を移動させると共に、そのときに前記検出手段が示す干渉縞のコントラストの変化カーブをその干渉縞の各位置について取得し、前記前測定手順で取得したカーブの重複領域内で最大コントラストを与える前記光学素子の位置を求め、その位置を前記測定時における前記光学素子の最適位置とみなす。

請求項（抜粋）：

被検レンズの透過光束である被検光束を所定の参照光束と干渉させる光学系と、前記干渉により生じる干渉縞を検出する検出手段とを備えた干渉計により、前記被検レンズの透過波面を測定する干渉測定方法であって、前記干渉計において前記被検光束と前記参照光束の光路差を調整する光学素子をその調節方向に移動させると共に、そのときに前記検出手段が示す干渉縞のコントラストの変化カーブをその干渉縞の各位置について取得する前測定手順と、前記前測定手順で取得した各カーブを参照し、それらカーブの重複領域内で最大コントラストを与える前記光学素子の位置を求め、その位置を前記測定時における前記光学素子の最適位置とみなす決定手順とを有したことを特徴とする干渉測定方法。

IPC (4件)：

G01B 9/02 ,  G01B 11/24 ,  G01M 11/02 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G01B 9/02 ,  G01M 11/02 B ,  G01B 11/24 D ,  H01L 21/30 515 D

Fターム (21件)：

2F064AA09 ,  2F064BB04 ,  2F064EE02 ,  2F064EE05 ,  2F064GG22 ,  2F064GG38 ,  2F064GG39 ,  2F065AA49 ,  2F065AA53 ,  2F065BB05 ,  2F065BB22 ,  2F065CC22 ,  2F065FF51 ,  2F065LL00 ,  2F065LL04 ,  2F065LL12 ,  2F065PP12 ,  2G086HH06 ,  5F046BA03 ,  5F046CB12 ,  5F046CB25