特許

J-GLOBAL ID：200903070714896591

基板処理装置

発明者： 田中 真人 ,  藤川 和憲 ,  村岡 祐介
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-304675
公開番号（公開出願番号）：特開平7-130722
出願日： 1993年11月08日
公開日（公表日）： 1995年05月19日
要約：

【要約】【目的】 基板を洗浄及び乾燥処理後に熱処理する場合に、洗浄及び乾燥処理を終えた基板が熱処理されるまで基板表面が大気に触れないようにし、基板表面へのパーティクル付着やガス吸着を無くして歩留りの低下を防ぐ。【構成】 洗浄装置部10の乾燥処理部を、密閉チャンバ20、密閉チャンバ内を排気して減圧する排気手段、及び密閉チャンバ内へ有機溶剤の蒸気を供給する蒸気供給手段を備えて構成する。熱処理装置部12に、ロードロック室30に連接したロードロック準備室28を設け、洗浄装置部の密閉チャンバとロードロック準備室とを、開閉自在のシャッター36を備えた連絡開口を介して気密に連通接続し、その間で基板を移送する基板移送ロボット38を設ける。

請求項（抜粋）：

基板を洗浄処理し最終的にリンス処理して乾燥させる洗浄装置部と、準備室を備え、前記洗浄装置部で洗浄された基板を熱処理する熱処理装置部とからなる基板処理装置において、前記洗浄装置部の乾燥処理部を、有機溶剤の蒸気を供給するための蒸気供給口を有する密閉チャンバと、この密閉チャンバ内を排気して減圧する排気手段と、前記密閉チャンバ内へ蒸気供給口を通して有機溶剤の蒸気を供給する蒸気供給手段とを備えて構成するとともに、前記洗浄装置部と前記熱処理装置部とを連設し、かつ、前記密閉チャンバと前記準備室とを、開閉自在のシャッターを備えた連絡開口を介して気密に連通接続し、前記密閉チャンバ内から前記連絡開口を通して前記準備室内へ基板を移送する基板移送手段を設けたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/31 ,  H01L 21/304 351 ,  H01L 21/324

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 自然酸化膜除去装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-057004   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 特開平4-251930
  
• 特開平4-349627