特許
J-GLOBAL ID：200903070725393290
不純物量の低減されたフォトレジスト溶液の製造方法及びそのための液体精製装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-310249
公開番号（公開出願番号）：特開2001-125277
出願日： 1999年10月29日
公開日（公表日）： 2001年05月11日
要約：
【要約】【課題】 簡便な操作でフォトレジスト溶液から金属不純物を低いレベルまで除去することができる方法を提供し、またそれに適した液体精製装置を提供する。【解決手段】 金属不純物に対して吸着能を有する物質が充填されたカラムにフォトレジスト溶液を通過させ、通過後のフォトレジスト溶液をさらに上記カラムに導き、閉鎖系内で循環させることによってフォトレジスト溶液中の金属不純物を除去し、不純物量の低減されたフォトレジスト溶液を製造する。このための液体精製装置は、不純物を含む液体を収容するためのタンク1、不純物吸着能を有する物質が充填されたカラム2、及びその液体を流すためのポンプ3を備え、タンクの出口とカラムの入口とが流路5で連結され、カラムの出口とタンクの入口とが別の流路6,7で連結され、いずれか一方の流路に上記ポンプ3が配置されたものである。
請求項（抜粋）：
金属不純物に対して吸着能を有する物質が充填されたカラムにフォトレジスト溶液を通過させ、通過後のフォトレジスト溶液をさらに該カラムに導き、閉鎖系内で循環させることによって該フォトレジスト溶液中の金属不純物を除去することを特徴とする、不純物量の低減されたフォトレジスト溶液の製造方法。
Fターム (4件)：
2H096AA25
, 2H096AA26
, 2H096LA25
, 2H096LA30
