特許

J-GLOBAL ID：200903070727724900

スルホニウム塩の製造方法

発明者： 伊達 雅志 ,  木村 秀基 ,  山元 二郎
出願人/特許権者： サンアプロ株式会社
代理人 (1件)： 荒井 鐘司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-381430
公開番号（公開出願番号）：特開2002-241363
出願日： 2001年12月14日
公開日（公表日）： 2002年08月28日
要約：

【要約】【課題】 大過剰の酸を使用することなく、また複分解工程を経ずに、直接目的のスルホニウム塩を製造する。【解決手段】 アリール基の少なくとも1つの炭素原子に水素原子が結合しているアリール化合物(A)と、式:R1SOR2(式中、R1、R2は、置換されていてもよい炭化水素基または複素環基を表し、互いに同一であっても異なっていてもよい。)で表されるスルホキシド化合物(B)とを、式:HMXmYn(式中、Mは元素周期表のIIIa族またはVa族の元素、Xはハロゲン、Yは水酸基を表し、m、nは、MがIIIa族の場合は、m+n=4、且つn=0〜3の整数であり、MがVa族の場合は、m+n=6、且つn=0〜2の整数である。)で表される強酸(C)の存在下に反応させる。

請求項（抜粋）：

アリール基の少なくとも1つの炭素原子に水素原子が結合しているアリール化合物(A)と、下式(1)(式中、R1、R2は、置換されていてもよい炭化水素基または複素環基を表し、互いに同一であっても異なっていてもよい。)で表されるスルホキシド化合物(B)とを、下式(2)HMXmYn (2)(式中、Mは元素周期表のIIIa族またはVa族の元素、Xはハロゲン、Yは水酸基を表し、m、nは、MがIIIa族の場合は、m+n=4、且つn=0〜3の整数であり、MがVa族の場合は、m+n=6、且つn=0〜2の整数である。)で表される強酸(C)の存在下に反応させることを特徴とする、MXmYn-をアニオンとするスルホニウム塩の製造方法。

Fターム (4件)：

4H006AA02 ,  4H006AC60 ,  4H006AC90 ,  4H006BE90