特許

J-GLOBAL ID：200903070748724609

ステージ装置及び露光装置

発明者： 奥村 正彦
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-213361
公開番号（公開出願番号）：特開2001-044264
出願日： 1999年07月28日
公開日（公表日）： 2001年02月16日
要約：

【要約】【課題】 ステージの位置計測精度を向上させる。【解決手段】 ステージRSTがベース部材42上で移動すると、移動部材18がステージと反対向きに移動する。この結果、ステージRST単体が移動する場合に比べて、ベース部材42より上方の系の全運動量が小さくなり、これに起因してベース部材42に生じる偏荷重が低減される。また、ベース部材42は、支持機構51によって異なる3点で支持されているので、支持機構51により支持されたベース部材に局所的に発生する変形に起因するモーメントが外部に伝達すること、及び外部の振動等に起因するモーメントがベース部材に伝達されるのを防止することができる。従って、位置計測装置RIFによりステージRSTの位置を高精度に計測することが可能になる。

請求項（抜粋）：

所定方向に移動するステージと;前記ステージを移動可能に支持するベース部材と;前記ステージの位置を計測する位置計測装置と;前記ステージの移動の際に、前記ステージと反対向きに移動する移動部材と;前記ベース部材を異なる3点で支持する支持機構とを備えることを特徴とするステージ装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 ,  G03F 9/00 ,  G05D 3/00 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

H01L 21/68 K ,  G03F 9/00 H ,  G05D 3/00 A ,  H01L 21/30 503 B

Fターム (36件)：

5F031CA02 ,  5F031CA07 ,  5F031HA13 ,  5F031HA16 ,  5F031HA50 ,  5F031HA55 ,  5F031JA02 ,  5F031JA22 ,  5F031JA28 ,  5F031KA06 ,  5F031LA04 ,  5F031LA08 ,  5F031MA27 ,  5F046AA23 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC03 ,  5F046CC16 ,  5F046CC18 ,  5F046CC20 ,  5F046DA08 ,  5H303AA06 ,  5H303BB01 ,  5H303BB07 ,  5H303BB11 ,  5H303CC01 ,  5H303DD04 ,  5H303EE03 ,  5H303EE07 ,  5H303FF04 ,  5H303GG13 ,  5H303HH02 ,  5H303KK27 ,  5H303LL03