特許
J-GLOBAL ID：200903070753686316
現像バイアス印加装置及び非接触現像装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-032642
公開番号（公開出願番号）：特開2000-231247
出願日： 1999年02月10日
公開日（公表日）： 2000年08月22日
要約：
【要約】【課題】 非接触現像において良好な現像条件を設定することを可能とした現像バイアス印加装置の提供。【解決手段】 像形成体と現像スリーブとの間に印加する現像バイアスが搬送波である高周波を低周波信号で振幅変調すると共に、高周波と低周波の周波比は2〜10倍の整数倍であって、現像性の調整は周波数又は周波数比を変更して行う。
請求項（抜粋）：
像形成体と現像スリーブとの間に印加する現像バイアスが搬送波である高周波を低周波信号で振幅変調すると共に、高周波と低周波の周波数比は整数倍であることを特徴とする現像バイアス印加装置。
Fターム (7件)：
2H073AA03
, 2H073AA05
, 2H073BA03
, 2H073BA13
, 2H073BA41
, 2H073BA45
, 2H073CA03
