特許

J-GLOBAL ID：200903070760154818

透明ガスバリア膜、透明ガスバリア膜付き基体およびその製造方法

発明者： 高松 敦 ,  菅 稔元
出願人/特許権者： セントラル硝子株式会社
代理人 (1件)： 西 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-316534
公開番号（公開出願番号）：特開2004-148673
出願日： 2002年10月30日
公開日（公表日）： 2004年05月27日
要約：

【課題】フラトパネルディスプレイなどに用いられる有機物に対し、耐久性を向上させるための、極めて優れたガスバリア性を有するガスバリア膜を提供する。【解決手段】基体の表面に成膜される酸化珪素系(SiOx)の透明ガスバリア膜において、酸化珪素系の透明ガスバリア膜が、C(炭素)およびN(窒素)のいずれをも含み、Si(珪素)、O(酸素)、C、Nの元素成分比が、Siの1に対して、Oが0.60〜1.70、Cが0.05〜0.40、Nが0.05〜0.60である透明ガスバリア膜。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基体の表面に成膜される酸化珪素系(SiOx)の透明ガスバリア膜において、酸化珪素系の透明ガスバリア膜が、C(炭素)およびN(窒素)のいずれをも含むことを特徴とする透明ガスバリア膜。

IPC (4件)：

B32B9/00 ,  C23C14/06 ,  C23C14/10 ,  C23C14/24

FI (4件)：

B32B9/00 A ,  C23C14/06 K ,  C23C14/10 ,  C23C14/24 F

Fターム (20件)：

4F100AA20B ,  4F100AG00A ,  4F100AK01A ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100EH66B ,  4F100GB41 ,  4F100JD02 ,  4F100JN01B ,  4F100YY00B ,  4K029AA11 ,  4K029BA41 ,  4K029BA46 ,  4K029BA64 ,  4K029BC00 ,  4K029BD00 ,  4K029DD05 ,  4K029DD06 ,  4K029EA01 ,  4K029EA05