特許
J-GLOBAL ID：200903070761947102
成膜装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-066741
公開番号（公開出願番号）：特開2003-268545
出願日： 2002年03月12日
公開日（公表日）： 2003年09月25日
要約：
【要約】【課題】 基板の水分除去工程において基板の反りが発生することを抑制して成膜を良好に行なうことができるとともに、1つの装置で基板の水分を除去する工程と基板に成膜する工程とを行なうことができる成膜装置を提供する。【解決手段】 成膜装置に、周波数2.45GHz、出力1.5KWのマイクロ波発生器が使用された乾燥装置が設けられる。そのマイクロ波発生器200から2.45±0.015GHzでマイクロ波が発振され、発振されたマイクロ波が、導波管201、低損失係数材料202を経て真空槽101内に導入され、基板100の裏面側(ホルダー302に接する面側)から基板100に照射される。
請求項（抜粋）：
内部で基板に成膜するためのチャンバと、該チャンバ内において、前記基板を保持するためのホルダと、該ホルダに保持された前記基板を乾燥させるための乾燥手段とを備え、前記乾燥手段は、マイクロ波発生器により発生されたマイクロ波を用いて前記基板の水分を蒸発させる、成膜装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/58 C
, C23C 16/56
4K029AA11
, 4K029AA24
, 4K029BD02
, 4K029EA05
, 4K029GA01
, 4K030CA07
, 4K030CA12
, 4K030DA09
, 4K030JA06
, 4K030KA39
, 4K030LA15
