特許

J-GLOBAL ID：200903070764645093

塩基性ガス処理方法および装置

発明者： 古賀 実 ,  前田 洋輔 ,  斉木 茂夫
出願人/特許権者： 株式会社タクマ
代理人 (1件)： 北村 修一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-037157
公開番号（公開出願番号）：特開2000-237532
出願日： 1999年02月16日
公開日（公表日）： 2000年09月05日
要約：

【要約】【課題】 フィルタを用いずに被処理ガス中の塩基性ガスを除去すること。【解決手段】 塩基性ガスを含有する被処理ガスに高周波放電処理を行い、その被処理ガス中に活性化状態の酸性ガスを発生させるとともに、前記塩基性ガスを中和処理する。

請求項（抜粋）：

塩基性ガスを含有する被処理ガスに高周波放電処理を行い、その被処理ガス中に活性化状態の酸性ガスを発生させることにより、前記塩基性ガスを中和処理する塩基性ガス処理方法。

IPC (2件)：

B01D 53/42 ,  B01D 53/32 ZAB

FI (2件)：

B01D 53/34 119 ,  B01D 53/32 ZAB

Fターム (12件)：

4D002AA11 ,  4D002AA13 ,  4D002AC10 ,  4D002BA07 ,  4D002BA14 ,  4D002CA07 ,  4D002DA41 ,  4D002DA46 ,  4D002DA51 ,  4D002DA57 ,  4D002EA02 ,  4D002FA06

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-197418
  
• オゾン・プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-086774   出願人：株式会社タクマ
• 特開平4-197418