特許
J-GLOBAL ID：200903070765368786
露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-091733
公開番号（公開出願番号）：特開平11-288870
出願日： 1998年04月03日
公開日（公表日）： 1999年10月19日
要約：
【要約】【課題】 投影光学系への汚染物の付着を防ぎ、露光量低下や露光量ムラを防止することができる露光装置の提供。【解決手段】 感光性基板8とそれに最も近い投影光学系7を構成するレンズ7aとの間に挿脱可能に光学素子14aを設け、光量センサ9で露光量を検出して露光量の低下や露光量ムラの発生を検出したならば、清浄な光学素子14bを感光性基板8とレンズ7aとの間に配設するとともに、汚染された光学素子14aを洗浄装置13で光洗浄する。そして、光量センサ35,36で洗浄中の光学素子14aの透過率をモニタし、透過率が所定値以上となったならば洗浄を終了する。
請求項（抜粋）：
パターンが形成されたマスクを露光光で照明し、照明された前記パターンを投影光学系で感光性基板上に投影する露光装置において、露光光路中の前記感光性基板に最も近い位置に挿脱可能に設けられる光学部材と、前記光学部材を露光光路中から取り出して洗浄する洗浄手段とを備えることを特徴とする露光装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G01N 21/15
, G03F 7/20 521
, H01L 21/304 645
H01L 21/30 503 G
, G01N 21/15
, G03F 7/20 521
, H01L 21/304 645 D
, H01L 21/30 516 C
