特許
J-GLOBAL ID：200903070768795626
位置合わせ方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田辺 恵基
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-346373
公開番号（公開出願番号）：特開平7-183205
出願日： 1993年12月22日
公開日（公表日）： 1995年07月21日
要約：
【要約】【目的】本発明は、原板20上の基準に対して所定の関係で配置されたパターンの第1の像を投影光学系17を介して感光基板11上に投影し、パターンの第2の像を第1の像に重ね合わせて投影するために、感光基板11を原板20に対して位置合わせする位置合わせ方法において、一段と精度良く投影像の位置合わせを行う。【構成】原板20の基準位置(原板の中心位置)に対する計測マークの位置を考慮し、投影光学系17の倍率や原板20の位置(回転ずれなど)がこのマークの投影像の位置に与える影響を加味して、各補正パラメータ(誤差パラメータ)を決定することにより、露光位置の位置合わせ精度を向上し得る。
請求項（抜粋）：
原板上の基準に対して所定の関係で配置されたパターンの第1の像を投影光学系を介して感光基板上に投影し、前記パターンの第2の像を前記第1の像に重ね合わせて投影するために、前記感光基板を前記原板に対して位置合わせする位置合わせ方法において、予め前記感光基板上に前記第1の像を形成する工程と、前記感光基板上の前記第1の像の位置を前記感光基板上の複数ヶ所について実測する工程と、前記基準を前記投影光学系を介して前記感光基板上に投影した場合の前記基準の位置と、前記原板上の前記パターンの位置と、前記実測値とに基づいて、前記第2の像を前記第1の像に対して重ね合わせて露光する際の、前記第1の像と前記第2の像とのずれ量が最小となるような誤差パラメータを決定する工程と、該決定されたパラメータに基づいて前記感光基板と前記原板とを位置決めする工程とを具えることを特徴とする位置合わせ方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 525 D
, H01L 21/30 525 W
