特許
J-GLOBAL ID：200903070793334862
パターン検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 章夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-161778
公開番号（公開出願番号）：特開平5-333532
出願日： 1992年05月29日
公開日（公表日）： 1993年12月17日
要約：
【要約】【目的】 パターン信号を得てこれを基準レベルと検出することでパターン欠陥を検出する検査装置において、中間濃度のパターン欠陥を確実に検出できるようにする。【構成】 マスクフィルムに形成されたパターン濃度に応じた電気信号を得るCCDカメラ1と、得られた信号のレベルを高レベル側に偏った第1の基準レベルと比較する第1の2値化部21と、同信号を低レベル側に偏った第2の基準レベルと比較する第2の2値化部22と、得られた2値化信号の特徴を抽出する第1及び第2の特徴抽出部31,32と、抽出された特徴から欠陥を判定する判定部4と、システム制御部5とで構成される。
請求項（抜粋）：
マスクフィルムに形成されたパターン濃度を電気信号レベルとして検出し、この電気信号レベルを基準レベルと比較して2値化し、2値化した信号に基づいてパターン欠陥を検出する装置において、前記2値化を行う手段は、高レベル側に偏った第1の基準レベルと、低レベル側に偏った第2の基準レベルとをそれぞれ用いて2値化を行うように構成したことを特徴とするパターン検査装置。
IPC (5件)：
G03F 1/08
, G01B 11/24
, G01N 21/88
, H01L 21/027
, H04N 1/40 103
