試料の滴下方法およびスポッティング装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大石皓一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-146513
公開番号（公開出願番号）：特開2002-357615
出願日： 2001年05月16日
公開日（公表日）： 2002年12月13日
要約：

【要約】【課題】担体表面に、試料を滴下して、多数のスポットを均一に形成することのできる試料の滴下方法を提供する。【解決手段】基板に、互いに離間して、ドット状に形成され、多孔質材料によって形成された複数のドット状の多孔質領域に、試料を滴下するスポッティング方法であって、センサによって、前記基板の基準位置を検出し、スポッティングヘッドと、前記基板とを、少なくとも一次元的に、相対的に移動させつつ、前記スポッティングヘッドによって、試料を滴下することを特徴とする試料の滴下方法。

請求項（抜粋）：

基板に、互いに離間して、ドット状に形成され、多孔質材料によって形成された複数のドット状の多孔質領域に、試料を滴下するスポッティング方法であって、センサによって、前記基板の基準位置を検出し、スポッティングヘッドと、前記基板とを、少なくとも一次元的に、相対的に移動させつつ、前記スポッティングヘッドによって、試料を滴下することを特徴とする試料の滴下方法。

IPC (7件)：

G01N 37/00 , G01N 37/00 102 , C12M 1/00 , G01N 1/00 101 , G01N 33/53 , G01N 33/566 , C12N 15/09

FI (7件)：

G01N 37/00 , G01N 37/00 102 , C12M 1/00 A , G01N 1/00 101 K , G01N 33/53 M , G01N 33/566 , C12N 15/00 A

Fターム (35件)：

2G052AA28 , 2G052AB16 , 2G052AD46 , 2G052BA02 , 2G052CA02 , 2G052CA08 , 2G052CA40 , 2G052CA45 , 2G052CA48 , 2G052DA06 , 2G052DA08 , 2G052DA12 , 2G052DA15 , 2G052DA21 , 2G052DA33 , 2G052EA03 , 2G052ED05 , 2G052FD20 , 2G052GA11 , 2G052GA18 , 2G052GA30 , 2G052HB08 , 2G052HB10 , 2G052HC03 , 2G052HC04 , 2G052HC07 , 2G052HC12 , 2G052HC16 , 4B024AA11 , 4B024CA01 , 4B024CA11 , 4B024HA14 , 4B029AA23 , 4B029BB20 , 4B029CC04

引用特許：

審査官引用 (1件)

液の転写部材及び転写装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-045967 出願人：株式会社化研興業

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