特許
J-GLOBAL ID:200903070795116528

切削工具用硬質皮膜の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 植木 久一 ,  菅河 忠志 ,  二口 治 ,  伊藤 浩彰
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-167963
公開番号(公開出願番号):特開2006-316351
出願日: 2006年06月16日
公開日(公表日): 2006年11月24日
要約:
【課題】高速・高能率切削が可能な、TiAlNよりも耐摩耗性に優れた切削工具用硬質皮膜を得るための有用な製造方法を提供する。【解決手段】所定の組成および結晶構造を有する硬質皮膜を製造するための方法であって、ターゲットを構成する金属の蒸発およびイオン化をアーク放電にて行うアークイオンプレーティング法において、該ターゲットの蒸発面にほぼ直交して前方に発散ないし平行に進行する磁力線を形成し、この磁力線によって被処理体近傍における成膜ガスのプラズマ化を促進すると共に、前記被処理体に印加するバイアス電位をアース電位に対して-50V〜-300Vとして成膜する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
下記の硬質皮膜を製造するための方法であって、ターゲットを構成する金属の蒸発およびイオン化をアーク放電にて行うアークイオンプレーティング法において、該ターゲットの蒸発面にほぼ直交して前方に発散ないし平行に進行する磁力線を形成し、この磁力線によって被処理体近傍における成膜ガスのプラズマ化を促進すると共に、前記被処理体に印加するバイアス電位をアース電位に対して-50V〜-300Vとして成膜することを特徴とする切削工具用硬質皮膜の製造方法。 (Tia,Alb,Crc)(C1-dNd)からなる硬質皮膜であって、 上記a,b,c,dが、 0.02≦a≦0.30、 0.55≦b≦0.765、 0.06≦c、 a+b+c=1、 0.5≦d≦1 (a,b,cはそれぞれTi,Al,Crの原子比を示し、dはNの原子比を示す。以下同じ)、 または
IPC (5件):
C23C 14/32 ,  B23B 27/14 ,  B23B 51/00 ,  B23C 5/16 ,  C23C 14/06
FI (5件):
C23C14/32 B ,  B23B27/14 A ,  B23B51/00 J ,  B23C5/16 ,  C23C14/06 H
Fターム (19件):
3C037CC02 ,  3C046FF10 ,  3C046FF13 ,  3C046FF19 ,  3C046FF24 ,  4K029AA02 ,  4K029AA07 ,  4K029AA21 ,  4K029BA54 ,  4K029BA58 ,  4K029BC02 ,  4K029BD05 ,  4K029CA04 ,  4K029CA13 ,  4K029DD06 ,  4K029EA03 ,  4K029EA08 ,  4K029FA05 ,  4K029JA02
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 特許第2644710号公報 特許請求の範囲等
審査官引用 (1件)
  • 硬質皮膜被覆工具
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平11-138039   出願人:日立ツール株式会社

前のページに戻る