特許

J-GLOBAL ID：200903070808642631

1.5-ヘキサジエンシクロポリマーの製造法およびこの方法によって得られる生成物

発明者： ルイジ、レスコニ ,  ロマノ、マツォッキ ,  ファブリツィオ、ピエモンテシ
出願人/特許権者： ハイモント、インコーポレーテッド
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-119623
公開番号（公開出願番号）：特開平6-025319
出願日： 1992年04月13日
公開日（公表日）： 1994年02月01日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 結晶性の高い高融点の1,5-ヘキサジエンシクロポリマーの製造法。【構成】 (C5R5)2MX1X2 (I)[式中、MはZrまたはHfであり、R基は同じであるかまたは異なるものであり、C1〜C7の炭化水素基であり、X1およびX2は同じであるかまたは異なるものであり、H、ハロゲン、C1〜C20の炭化水素基、-OR、-OH、-SRまたは-SH基である]、またはQ(C5R4)2MX1X2 (I′)[式中、M、R、X1およびX2は化合物(I) について定義したのと同じ。Qは2価の基C2R′4またはSi2R4である]を有するメタロセン化合物と、(式中、R′はC2〜C20のアルキルまたはアルキレン基またはC7〜C20のアルカリール基であり、nは1〜20の数である)を有する1種類以上のアルモキサン化合物とから成る触媒の存在下にてモノマーの重合を行う。

請求項（抜粋）：

実質的に、A) 式 (C5R5)2MX1X2 (I) [式中、MはZrまたはHfであり、R基は同じであるかまたは異なるものであり、C1〜C7の炭化水素基であり、X1およびX2は同じであるかまたは異なるものであり、H、ハロゲン、C1〜C20の炭化水素基、-OR、-OH、-SRまたは-SH基(但し、Rは前記に定義した意味を有する)である]、または式 Q(C5R4)2MX1X2 (I')[式中、M、R、X1およびX2は化合物(I) について定義したのと同じ意味を有し、Qは2価の基C2R′4またはSi2R4(但し、R′基は同じであるかまたは異なるものであり、水素またはRと同じもの)である]を有するメタロセン化合物と、B) 式(式中、R′はC2〜C20のアルキルまたはアルキレン基またはC7〜C20のアルカリール基であり、nは1〜20の数である)を有する1種類以上のアルモキサン化合物とから成る触媒の存在下にてモノマーの重合を行うことを特徴とする、1,5-ヘキサジエンシクロポリマーの製造法。

IPC (2件)：

C08F 4/622 MFG ,  C08F 32/06 MNV