特許
J-GLOBAL ID：200903070809566181
ビスマス層状化合物の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松隈 秀盛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-074107
公開番号（公開出願番号）：特開平8-325019
出願日： 1996年03月28日
公開日（公表日）： 1996年12月10日
要約：
【要約】【課題】 良好な結晶性、電気的特性等の物性を有するビスマス層状化合物を製造する方法を提供する。【解決手段】 フルオライト系構造を有する化合物を前駆物質とし、これを熱処理してビスマス層状化合物を得るビスマス層状化合物の製造方法。
請求項（抜粋）：
フルオライト系構造を有する化合物を前駆物質とし、これを熱処理してビスマス層状化合物を得ることを特徴とするビスマス層状化合物の製造方法。
IPC (8件)：
C01G 33/00
, C01G 35/00
, C23C 16/40 ZAA
, C23C 18/12 ZAA
, H01L 21/316
, H01L 27/108
, H01L 21/8242
, H01L 39/24 ZAA
C01G 33/00 A
, C01G 35/00 C
, C23C 16/40 ZAA
, C23C 18/12 ZAA
, H01L 21/316 P
, H01L 39/24 ZAA B
, H01L 27/10 651
