特許

J-GLOBAL ID：200903070811085964

磁気ディスク用基板およびその製造方法

発明者： 鈴木 富雄 ,  竹矢 文則
出願人/特許権者： 日本碍子株式会社
代理人 (1件)： 杉村 暁秀 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-174895
公開番号（公開出願番号）：特開平9-035234
出願日： 1995年07月11日
公開日（公表日）： 1997年02月07日
要約：

【要約】【目的】ガラスセラミックス製の磁気ディスク用基板において、精密研磨加工によって加工面の中心線平均表面粗さを20オングストローム以下のレベルにまで短時間で減少させ、その強度を向上させ、その信頼性を向上させ、その薄型化を可能とすること。【構成】ガラスセラミックス製の磁気ディスク用基板であって、ガラスセラミックスを構成する結晶粒子の平均粒子径が、1.0μm以下であり、かつ主結晶層が、ニケイ酸リチウム(Li2 O・2SiO2 )相と、β-スポジュウメン(Li2 O・Al2 O3 ・4SiO2 )相またはβ-スポジュウメン固溶体相によって占められており、かつSiO2 組成の結晶相の占める割合が2重量%以下である。磁気ディスク用基板の表面の中心線平均粗さが20オングストローム以下である。

請求項（抜粋）：

ガラスセラミックス製の磁気ディスク用基板であって、前記ガラスセラミックスを構成する結晶粒子の平均粒径が1.0μm以下であり、かつ主結晶層が、ニケイ酸リチウム(Li2 O・2SiO2 )相と、β-スポジュウメン(Li2 O・Al2 O3 ・4SiO2 )相またはβ-スポジュウメン固溶体相によって占められており、さらにSiO2 組成の結晶相の占める割合が2重量%以下であり、前記磁気ディスク用基板の表面の中心線平均粗さが20オングストローム以下であることを特徴とする、磁気ディスク用基板。

IPC (4件)：

G11B 5/66 ,  C03C 10/12 ,  G11B 5/82 ,  G11B 5/84

FI (4件)：

G11B 5/66 ,  C03C 10/12 ,  G11B 5/82 ,  G11B 5/84 Z