特許
J-GLOBAL ID：200903070812156334
半導体露光方法及び露光装置
発明者：
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-229515
公開番号（公開出願番号）：特開2004-071851
出願日： 2002年08月07日
公開日（公表日）： 2004年03月04日
要約：
【課題】走査型投影露光装置において、ウエハー表面の凹凸形状を最適露光面に精度良く補正追従させる。【解決手段】レチクル上の回路パターンを投影光学系を介してウエハー上の露光領域に投影露光する露光装置において、特にスリット状の露光領域を走査させることによってウエハー上に投影露光する装置であり、露光スリットの前方に先読み計測点を3点以上設けた面位置計測装置において、そのウエハー平面度を露光装置に搬入する前に、露光装置とは別に構成したフォーカス検出系により、露光装置での走査露光方向でのフォーカス計測のタイミングによる飛び飛びの計測点の間、及びに走査露光方向と直交方向に構成した少なくとも3点以上の計測点の間のウエハーの平面情報を事前に求めておき、露光時にはフォーカス検出系で計測しない間のウエハーの位置では、該平面情報を使用して、フォーカス、チルトを制御、駆動することで、縮小される焦点深度に対し高いフォーカス補正精度を達成し、一枚のウエハーあたりの歩留まり向上を得ることが可能となる。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
レチクル上に形成された回路パターンをウエハー上に投影露光する投影露光装置において、該レチクルと該ウエハーを相対的に走査して露光する露光装置であり、該露光装置上において、該ウエハーへの露光位置の前後にそれぞれ少なくとも3点以上の領域に光を斜め方向から照射し、該ウエハーからの反射光をセンサーにて検出するフォーカス検出系を構成し、この該フォーカス検出系で該ウエハーの各計測点における高さ方向を求め、少なくとも3点以上の計測点からの情報から露光領域平均的な高さと走査露光方向と直交方向の傾きおよび走査露光方向への傾きを算出し、該ウエハー表面を最適露光像面位置に補正駆動を行う該露光装置において、3点以上の高さ計測点は該ウエハー上で平面を形成するように配置されており、かつ該露光位置の前後の計測点位置は同一形状であり、走査露光方向での計測のタイミングによる飛び飛びの計測点の間、及びに走査露光方向と直交方向に構成した少なくとも3点以上の計測点の間の該ウエハーの平面情報を事前に求めておき、露光時には該フォーカス検出系で計測しない間の該ウエハーの位置では、該平面情報を使用して、フォーカス、チルトを制御、駆動することを特徴とした半導体露光方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 526B
, G03F9/02 H
, H01L21/30 518
5F046BA05
, 5F046CB26
, 5F046CC05
, 5F046CC11
, 5F046DA14
, 5F046DA17
, 5F046DB04
, 5F046DC12
