特許

J-GLOBAL ID：200903070816846840

昇華方法

発明者： 丸川 敏 ,  高田 善典
出願人/特許権者： 三菱電線工業株式会社
代理人 (1件)： 藤本 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-192056
公開番号（公開出願番号）：特開平7-024205
出願日： 1993年07月05日
公開日（公表日）： 1995年01月27日
要約：

【要約】【目的】 昇華性物質を安定に蒸発させうる昇華方法の開発。【構成】 内部に開口率が5〜95%の熱伝導性多孔板(2)を1段又は2段以上設置してなる耐熱性坩堝(1)に昇華性物質の粉末(5)を収容し、前記坩堝の外部より加熱(4)して昇華性物質の粉末を昇華させる昇華方法。【効果】 昇華による単位時間あたりのガス発生量をほぼ一定にでき、昇華性物質の蒸着膜をほぼ一定の成長速度で形成できる。

請求項（抜粋）：

内部に開口率が5〜95%の熱伝導性多孔板を1段又は2段以上設置してなる耐熱性坩堝に昇華性物質の粉末を収容し、前記坩堝の外部より加熱して昇華性物質の粉末を昇華させることを特徴とする昇華方法。