特許
J-GLOBAL ID：200903070818561222
基板処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 利之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-347738
公開番号（公開出願番号）：特開平5-160241
出願日： 1991年12月04日
公開日（公表日）： 1993年06月25日
要約：
【要約】【目的】 基板搬送装置の基板ホルダ-を1台にしても、二つのゲ-トバルブを同時に開くことがなく、かつ生産性も低下させない。【構成】 処理済みの基板を新しい基板と交換するには、まず、基板搬送室8内の搬送ロボット14でロ-ドロック室7から基板を取り出して、第1の保持ステ-ジ12に載せておく。ベ-ス11を回転させてから、処理室6のゲ-トバルブ6aを開いて、処理済みの基板16を搬送ロボット14の基板ホルダ-19で取り出して、第2の保持ステ-ジ13に載せ、第1の保持ステ-ジ12上の新しい基板を基板ホルダ-19でつかんで、処理室6に搬入する。その後、ゲ-トバルブ6aを閉じて、処理室6で成膜を行っている間に、第2の保持ステ-ジ13上の処理済み基板をロ-ドロック室7に戻す。
請求項（抜粋）：
真空排気可能な少なくとも一つの処理室と、真空排気可能な基板搬送室と、真空排気可能なロ-ドロック室とを備える基板処理装置において、ロ-ドロック室と処理室との間で基板を搬送するための基板搬送装置が基板搬送室に配置され、前記基板搬送装置は、基板搬送室に対して回転可能なベ-スと、このベ-スに取り付けられて基板を一時的に保持できる二つの保持ステ-ジと、前記ベ-スに取り付けられて基板を搬送することができる単一の搬送ロボットとを有することを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
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