特許

J-GLOBAL ID：200903070820036801

複合型真空処理装置

発明者： 楠本 淑郎 ,  小宮 宗一
出願人/特許権者： 日本真空技術株式会社
代理人 (1件)： 石島 茂男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-087461
公開番号（公開出願番号）：特開平10-270527
出願日： 1997年03月21日
公開日（公表日）： 1998年10月09日
要約：

【要約】【課題】小型、低コストで真空槽間の相互汚染が生じない複合型真空処理装置を提供する。【解決手段】この複合処理装置1では、搬送室2を通過させて処理対象物を移動させる際、搬送室2内にパージガスを導入し、仕切を開ける真空槽91〜98を真空排気して、搬送室2から真空槽91〜98に向かうパージガス流を形成するように構成されている。真空槽91〜98内の残留気体が真空槽91〜98内に押し戻され、パージガスと一緒に真空排気されるので、残留気体によって真空槽91〜98間の相互汚染が生じることはない。

請求項（抜粋）：

各々真空排気可能に構成された搬送室と複数の真空槽とを有し、前記搬送室と前記各真空槽との間に設けられた仕切を開閉できるように構成され、搬入された処理対象物を真空槽間で移動させる際、前記仕切を開け、前記搬送室内を通過させるように構成された複合型真空処理装置であって、前記搬送室は、パージガスを流量制御しながら導入できるように構成され、仕切が開けられる真空槽の圧力よりも、前記搬送室内の圧力を高くできるように構成されたことを特徴とする複合型真空処理装置。

IPC (7件)：

H01L 21/68 ,  B01J 3/00 ,  B01J 3/02 ,  C23C 14/00 ,  C23C 16/44 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205

FI (7件)：

H01L 21/68 A ,  B01J 3/00 J ,  B01J 3/02 M ,  C23C 14/00 B ,  C23C 16/44 B ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/205

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 処理装置内の被処理体の搬送方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-021932   出願人：東京エレクトロン株式会社