特許

J-GLOBAL ID：200903070847796646

回折光学素子およびその製造方法

発明者： 井上 晃 ,  小尾 邦寿
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
代理人 (1件)： 奈良 武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-057546
公開番号（公開出願番号）：特開2001-249208
出願日： 2000年03月02日
公開日（公表日）： 2001年09月14日
要約：

【要約】【課題】 回折効率の波長依存性を低減して、色むらや不要次数光によるフレア発生等を有効に防止しする。【解決手段】 使用する波長帯域で実質的に透明である少なくとも2つの光学材料1,3と、その少なくとも1つの互いに異なる光学材料1,3の境界面にレリーフパターン3を有する回折光学素子の製造方法において、少なくとも一方の面の上記レリーフパターン2を有した第1の光学材料1の上に、粘度が5000mPa・s以下の第2の光学材料3を積層する。

請求項（抜粋）：

使用する波長帯域で実質的に透明である少なくとも2つの光学材料と、その少なくとも1つの互いに異なる光学材料の境界面にレリーフパターンを有する回折光学素子の製造方法において、少なくとも一方の面の上記レリーフパターンを有した第1の光学材料の上に、粘度が5000mPa・s以下の第2の光学材料を積層することを特徴とする回折光学素子の製造方法。

Fターム (10件)：

2H049AA04 ,  2H049AA14 ,  2H049AA18 ,  2H049AA31 ,  2H049AA40 ,  2H049AA43 ,  2H049AA45 ,  2H049AA51 ,  2H049AA55 ,  2H049AA63