特許
J-GLOBAL ID:200903070856262379

3次元曲面を持つ被計測体の形状計測方法および装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 板野 嘉男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-213805
公開番号(公開出願番号):特開2000-046529
出願日: 1998年07月29日
公開日(公表日): 2000年02月18日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 3次元曲面を持つ被計測体に対して非接触で形状計測を行なう方法および装置であって、高精度、且つ、操作の容易、迅速性を確保する。【解決手段】 被計測体10の上面と下面に光軸が一致する集光ビームを照射できるよう対向させて設けた半導体レーザ12と、上面と下面に映し出された各々のレーザスポットを集光ビームと直角な方向から観察できるCCDカメラ16とからなる光学系装置Aと、被計測体を特定位置を中心に回動可能にする回転ステージ20と、回動中心とレーザスポットとの距離を変更可能にする直動ステージ18と、これら各ステージの動きを制御するステージコントローラ22とからなる駆動系装置Bと、CCDカメラのビデオ信号から撮像素子上のレーザスポットの位置を検出する画像処理装置24と、画像処理装置の出力信号を制御装置Dに取り込むデータ入力部とからなる処理系装置Cと、駆動系装置の動作を制御する制御装置Dとからなる。
請求項(抜粋):
3次元曲面を持つ被計測体の上側と下側の両側からそれぞれ光軸が一致する半導体レーザの集光ビームを被計測体の上面と下面に照射し、上面と下面に映し出された各々のレーザスポットを集光ビームの光軸と直角な方向からそれぞれCCDカメラで観測し、CCDカメラの撮像素子上に結像したレーザスポットの位置から集光ビームの照射位置における被計測体の上面と下面の変位・座標値を同時に計測する方法を用いて、集光ビームの照射位置を被計測体上順次変え、各照射位置における被計測体の変位・座標値を求めることで、被計測体の厚さ、輪郭、外径に関する計測値を得ることを特徴とする3次元曲面を持つ被計測体の形状計測方法。
IPC (4件):
G01B 11/24 ,  G01B 11/06 ,  G01B 11/08 ,  G01B 21/20 101
FI (5件):
G01B 11/24 A ,  G01B 11/24 K ,  G01B 11/06 H ,  G01B 11/08 H ,  G01B 21/20 101 A
Fターム (31件):
2F065AA26 ,  2F065AA30 ,  2F065AA53 ,  2F065CC00 ,  2F065DD00 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065GG06 ,  2F065HH04 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL04 ,  2F065LL12 ,  2F065MM03 ,  2F065MM04 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ31 ,  2F065SS13 ,  2F069AA39 ,  2F069AA46 ,  2F069AA66 ,  2F069BB30 ,  2F069DD25 ,  2F069GG04 ,  2F069GG07 ,  2F069GG11 ,  2F069JJ13 ,  2F069JJ17 ,  2F069MM23 ,  2F069QQ07

前のページに戻る