特許

J-GLOBAL ID：200903070859830033

平滑な表面をもつCVDダイヤモンド薄膜およびその製法

発明者： トーマス・リチャード・アンソニイ ,  ジェームス・ファルトン・フレイシャー
出願人/特許権者： ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
代理人 (1件)： 生沼 徳二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-140704
公開番号（公開出願番号）：特開平7-172988
出願日： 1993年06月11日
公開日（公表日）： 1995年07月11日
要約：

【要約】【目的】 微粒構造で平滑な成長面を有するダイヤモンド薄膜を基体上で製造するための化学蒸着法。【構成】 基体上に蒸着したダイヤモンド粒子の成長を阻害するのに有効な量の窒素を含有する水素/炭化水素気体雰囲気を使用する。

請求項（抜粋）：

基体表面上のダイヤモンドコーティングの成長を促進する温度、圧力および気体濃度の条件下で水素と炭化水素の気体混合物からダイヤモンド薄膜形態の炭素を基体表面上に蒸着させる化学蒸着(CVD)プロセスによって平滑な成長面を有する微粒構造のダイヤモンド薄膜を製造するための方法であって、ダイヤモンド薄膜内の結晶小面の生成と成長を阻害するのに有効な量の窒素を含有する気体混合物からダイヤモンド薄膜を形成することを特徴とする方法。

IPC (2件)：

C30B 29/04 ,  C30B 25/02

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-256596
  
• 特開昭63-210010