特許

J-GLOBAL ID：200903070862578884

フルオルベンゾニトリル類の製造方法

発明者： トーマス・シヤッハ ,  テオドール・パーペンフース ,  ラルフ・プフイルマン
出願人/特許権者： ヘキスト・アクチェンゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 江崎 光史 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-168423
公開番号（公開出願番号）：特開平7-165695
出願日： 1994年07月20日
公開日（公表日）： 1995年06月27日
要約：

【要約】 (修正有)【構成】 少なくとも 1個のアルコキシポリオキシアルキル残基を含む式(1)の第四アンモニウム化合物の存在下で、クロロベンゾニトリルとアルカリ金属フルオリドとを反応させることによってフルオルベンゾニトリル及びクロロフルオルベンゾニトリルを製造する方法。〔例えば、ジメチル(エトキシポリオキシプロピルメチルエーテル)アンモニウム、クロリド〕【効果】 溶媒を用いない反応系において、比較的低温でまた非常に収率よくフルオルベンゾニトリル類を製造することができる。

請求項（抜粋）：

式(4)【化1】[ 式中、a は 1〜5 の整数であり、そしてb は 0〜3 の数である]で表される化合物とアルカリ金属フルオリドとを、a) 式(1)【化2】[ 式中、R1、R2及びR3は同一かまたは異なっており、式-(Cm H2m O)p R5( 式中、R5は水素あるいは 1〜16個の炭素原子を有する直鎖状または分枝状アルキル残基であり、m は 1〜10の整数でありそしてp は 1〜15の数である)で表される直鎖状または分枝状アルコキシポリオキシアルキル残基であるか、あるいは 1〜30個の炭素原子を有する直鎖状または分枝状アルキル残基であるか、あるいは置換されていないフェニルまたはナフチル残基、あるいは置換されているフェニルまたはナフチル残基であり、その際、その置換基はハロゲン、C1-C4-アルキル、C1-C4-アルコキシ、ニトロまたはシアノであり、R4は式-(C m H2m O)p R5で表される直鎖状または分枝状アルコキシポリオキシアルキル残基であり、そしてX (-) は無機アニオンである]で表される 1種以上の第四アンモニウム化合物;あるいはb) 式(2)【化3】[ 式中、R6、R7、R8及びR9は同一かまたは異なっており、1 〜22個の炭素原子を有する直鎖状または分枝状アルキル残基であるか、あるいは置換されていないかまたは置換されているアリール残基あるいはC1-C4-アルキルアリール残基であり、その際アリールはフェニルまたはナフチルであり、そしてその置換基はハロゲン、C1-C4-アルキル、C1-C4-アルコキシ、ニトロまたはシアノであり、そしてY は NまたはP である]で表される 1種以上の第四アンモニウム塩またはホスホニウム塩と成分 a) との混合物;あるいはc) 式(3)R10-(O-Cx H2x ) r -OR11 (3)[ 式中、R10 及びR11 は同一かまたは異なっており、水素あるいは 1〜16個の炭素原子を有する直鎖状または分枝状アルキル残基であり、x は 2〜6 の整数であり、そしてr は 0〜20の数である]で表される 1種以上のポリエーテルまたはクラウンエーテルと成分 a) との混合物;あるいは成分 a) 、b)及びc)の混合物;から本質的になる触媒の存在下で反応させることによってフルオルベンゾニトリルを製造する方法。

IPC (4件)：

C07C255/50 ,  B01J 31/02 102 ,  C07C253/30 ,  C07B 61/00 300