特許

J-GLOBAL ID：200903070866819517

放電プラズマ処理装置及びそれを用いた処理方法

発明者： 下西 弘二
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-248043
公開番号（公開出願番号）：特開2002-158219
出願日： 2001年08月17日
公開日（公表日）： 2002年05月31日
要約：

【要約】【課題】 大気圧近傍の圧力下で均一なグロー放電プラズマを継続して、安定して発生させ、単一の処理ガスのみならず複数の処理ガスを用いた薄膜形成、エッチング処理、アッシング処理等の工程における複雑な処理にも対応できる放電プラズマ処理装置及びそれを用いた処理方法の提供。【解決手段】 3枚以上の電極によって2つ以上の放電空間を形成してなり、前記放電空間を形成する電極対向面の少なくとも一方は固体誘電体で被覆されてなり、前記対向電極間に電界を印加することによって大気圧近傍の圧力下で放電プラズマを発生するようになされた放電プラズマ処理装置。

請求項（抜粋）：

3枚以上の電極によって2つ以上の放電空間を形成してなり、前記放電空間を形成する対向電極の対向面の少なくとも一方は固体誘電体で被覆されてなり、前記対向電極間に電界を印加することによって大気圧近傍の圧力下でグロー放電プラズマを発生するようになされた放電プラズマ処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/31 ,  C23C 16/515 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/42

FI (4件)：

H01L 21/31 C ,  C23C 16/515 ,  H05H 1/42 ,  H01L 21/302 C

Fターム (35件)：

4K030AA06 ,  4K030AA13 ,  4K030AA14 ,  4K030AA18 ,  4K030BA40 ,  4K030BA44 ,  4K030CA04 ,  4K030EA03 ,  4K030FA01 ,  4K030JA11 ,  4K030JA14 ,  4K030KA30 ,  4K030LA15 ,  5F004BA06 ,  5F004BB11 ,  5F004BD01 ,  5F004CA03 ,  5F045AA08 ,  5F045AB03 ,  5F045AB04 ,  5F045AB06 ,  5F045AB31 ,  5F045AB32 ,  5F045AB33 ,  5F045AC01 ,  5F045AC09 ,  5F045AC12 ,  5F045AE25 ,  5F045AE29 ,  5F045CB05 ,  5F045DP03 ,  5F045DP22 ,  5F045EH08 ,  5F045EH14 ,  5F045EH19