特許
J-GLOBAL ID:200903070884671489
表面処理
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
萼 経夫 (外3名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-528734
公開番号(公開出願番号):特表2002-501125
出願日: 1999年01月18日
公開日(公表日): 2002年01月15日
要約:
【要約】【解決手段】 本発明は、金属またはセラミック表面を処理する方法であって、オルガノチタネートもしくはジルコネートもしくはジルコアルミネートまたはそれらの混合物により表面を処理すること、および該処理表面をレーザーに暴露することからなる方法を提供する。
請求項(抜粋):
金属表面を処理する方法であって、オルガノチタネートもしくはジルコネートもしくはジルコアルミネート、またはそれらの混合物により該表面を処理すること、および該処理表面をレーザーに暴露することからなる方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (18件):
4J040EC061
, 4J040EC371
, 4J040HB06
, 4J040HC18
, 4J040JA05
, 4J040KA16
, 4J040MA02
, 4J040MA04
, 4J040PA04
, 4J040PA15
, 4K044AA02
, 4K044AA03
, 4K044AA06
, 4K044AA13
, 4K044BA21
, 4K044BC00
, 4K044CA44
, 4K044CA53
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